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产品代码： RTP-100-EP，最快升温速率可达200K/秒 产品价格： 根据要求 交货时间： 根据要求 |
真空快速退火炉，升温速率高达 200 K/秒。
主要特点是
温度均匀性好
精确控制的升温速率和快速降温速率
MFC精确控制的工艺气路
占地面积小巧
抽屉式设计多用途桌面装置，适用于以下应用：
适用于各种半导体工艺的优秀工具
离子注入/接触退火
快速热处理（RTP）,快速退火（RTA）,快速热氧化（RTO）,快速热氮化（RTN）；
可在真空、惰性气氛、氧气、氢气、混合气等不同环境下使用
SiAu、SiAl、SiMo 合金化
低介电材料
晶体化、致密化；
太阳能电池片键合等等
技术数据：
适用于最大 100 毫米（4 英寸）的单晶圆
石英腔体
带有集成气体入口和出口
标配一路带有氮气MFC质量流量控制器的工艺气体管路（5 nlm = 标准升每分钟）
小时顶部和底部红外加热各有 9 个灯和 14 kW
顶部和底部加热
配置真空泵支持真空能力高达 10E-3 hPa
SPS 过程控制器，具有 50 个程序，每个程序最多 50 个步骤（以太网接口），SIMATIC
7" 触摸屏，方便编程和过程控制
最高温度1200℃
热电偶温度控制
需要水冷
电气连接类型：2 x 32 A CEE 插头（3x 230 V，三相，N，PE，18 kW）
烤箱尺寸：504 x 521 x 576 毫米（宽 x 深 x 高）
重量：60公斤
快速退火炉由西门子 SPS 控制器进行编程。支持储存 50 个程序，并保存所有温度曲线和段。可根据要求提供水冷却器、附加流量计、附加工艺气体管理、附加热电偶等选件和附件。适用于各种应用程序和客户。设备小巧，方便取放样品，腔室易拆卸。退火炉可以轻松放置在标准实验室桌子上。
选项和配件：
| RTP-100-EP | 带有 1 个氮气 MFC 的基本装置 (5 nlm) |
| RTP-MFC | 质量流量控制器（最多总共 4 个） |
| MP | 隔膜泵或隔膜泵 |
| RVP | 旋片泵 |
| RTP-Ox | 氧气含量测量 |
| RTP-MM | 湿度测量 |
| RTP-H2+H2S | 氢气模块使用 100% 氢气，配有安全装置，包括。微量燃料电池 |
| RTP-SW | 用于冷却器和/或真空泵的开关盒 |
| RTP-TC | 选配辅助热电偶（最多 1 个） |
| RTP-VCR | VCR 连接器和线路（根据要求） |
| WC III | 冷水机 |
| RTP-GP | 石墨托盘（SiC 涂层：选配） |
| RTP-100-PC | 选配腔体，可与一个过程控制器单元（双腔）100 mm 一起使用 |
| RTP-QR-50 | 适用于 50 mm 晶圆尺寸的适配器 |
| RTP-QR-75 | 适用于 75 mm 晶圆尺寸的适配器 |
