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| 电源 |
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产品代码： RTP-150 产品价格： 根据要求 交货时间： 根据要求 |
真空快速退火炉，升温速率高达 75 K/秒。
主要特点是
温度均匀性好
精确控制的升温速率和快速降温速率
MFC精确控制工艺气路
占地面积小的桌面系统
抽屉式设计的多用途桌面装置，适用于以下应用：
适用于各种半导体工艺的优秀工具
离子注入/接触退火
快速热处理（RTP）,快速退火（RTA）,快速热氧化（RTO）,快速热氮化（RTN）；
可在真空、惰性气氛、氧气、氢气、混合气等不同环境下使用
SiAu、SiAl、SiMo 合金化
低介电材料
晶体化、致密化；
太阳能电池片键合等等
技术数据：
适用于最大 150 mm (6") 或 156 mm x 156 mm 基板尺寸的单晶圆
（可选：100 毫米适配器）
石英腔（室高：40 mm）
带有集成气体入口和出口
标配一路带有氮气MFC质量流量控制器的工艺气体管路（5 nlm = 标准升每分钟）
由 24 个红外灯 (21 kW) 加热
顶部和底部加热
降温速率：T=1000 °C˃400 °C 200 K/min。
降温速率：T= 400 °C˃100 °C 30 K/min。
配置真空泵，支持真空能力（高达 10E-3 hPa，高达 10E-6 hPa：请参阅 RTP-150-HV）
SPS 过程控制器，具有 50 个程序，每个程序最多 50 个步骤（以太网接口），SIMATIC
7" 触摸屏，方便编程和过程控制
最高温度1000℃
热电偶温度控制
需要水冷
电气连接类型：32 A CEE 插头（3 x 230 V，三相，N，PE，21 kW）
设备尺寸：504 毫米 x 504 毫米 (700) x 570 毫米（宽 x 深 x 高）
体重：55公斤
快速退火炉由西门子 SPS 控制器进行编程。支持储存 50 个程序，并保存所有温度曲线和段。可根据要求提供水冷却器、附加流量计、附加工艺气体管理、附加热电偶等选件和附件。该工具适用于各种应用程序和客户。设备小巧，方便取放样品，腔室易拆卸。退火炉可以轻松放置在标准实验室桌子上。
选项和配件：
| RTP-150 | 标配1路MFC氮气工艺气路（5 nlm = Normliter pro Minute） |
| RTP-MFC | MFC工艺气路（最多 4 个） |
| RTP-GP | 石墨托盘 |
| MP | 带压力计的膜（隔膜）泵浦高达 10 hPA |
| RVP | 旋片泵系统，真空度高达 10exp.-3 hPa，配有油过滤器和压力计 |
| RTP-PC-150 | 附加腔体，可与一个过程控制器单元（双腔室）150 mm 并行使用； 两个腔室不可能同时操作 |
| RTP-QP | 石英支架 |
| RTP-QC-150 | RTP-150 的备用石英腔体 |
| RTP-TC | 辅助电偶（插入腔室）（最多 3 个） |
| RTP-VM | 带数据记录的真空测量，高达 10exp.-3 hPa |
| WC III | 冷水机 |
