VPO-300-HV

真空快速退火适用于最大 300 x 300 mm 的样品尺寸和高达 1000 °C （可选1200 °C）的温度

红外卤素灯加热快速热退火 RTA 和快速热处理 RTP 设备，使用红外卤素灯灯加热来快速升温和冷却半导体晶圆。由于加热灯管的设计，这些 RTA 和 RTP 工具主要用于单晶圆处理。晶圆必须一张一张地处理。这对于使用立式炉和卧式炉的其他批量热处理来说并不那么重要，因为无论如何处理时间都很短。然而，晶圆处理占用了很大一部分工艺时间。
VPO-300-HV 是一款水冷快速退火炉。

UniTemp RTP 炉提供独特的灯排列，带有上下交叉灯阵列。温度分布工具提供了出色且无与伦比的温度均匀性，从而实现了过程的可重复性。

应用：

非常适合 最大 300 毫米的晶圆或方形样品 最大 300 x 300 毫米。

可以通过室壁引导不同的馈通，例如用于光学测量工具的窗口、热电偶馈通、气体入口等。
由于快速达到 10E -3 hPa 的真空，工艺周期非常短。

以下是最可行的应用：

还必须使用其他可能的污染工艺以及 RTP/RTA 烘箱的所有其他应用，例如：

• 退火工艺

• 快速热处理

• SiAu、SiAl、SiMo 合金化

• 低k电介质

• 注入后退火

腔室：

• 腔室尺寸：350 x 350 x 50 毫米

• 装载面积：300 x 300 毫米

• 腔体高度：50 mm（可选：腔体高度 100 mm，观察窗 85x25mm）

• 可选：扩展高度：200毫米至300毫米

• 室壁：抛光铝，易于清洁（可选：不锈钢）

加载中：

• 盖子垂直打开和关闭

• 直接或远程控制，可根据要求自动应用（SPS、机器人等）。

加热：

• 底部加热：红外线灯超过21千瓦

• 顶部加热：红外线灯超过21kW（可选）

冷却：

• 腔室：氮气

过程控制：

• 控制：SIMATIC SPS，带 7" 触摸屏

• 50个程序，每个程序可存储50个步骤

工艺气体：

• 1 个 5 nlm（= 标准升每分钟）的质量流量控制器为标准配置

• 可选：最多添加3路工艺气路（氮气、氩气、氦气、氧气，可选
  氢）

真空：

• 包括涡轮分子泵、真空阀和测量装置
  适用于高达 10E-6 hPa 的真空。

• 可选配前级泵：

• MP（隔膜泵）

• RVP（旋片泵）：10E -3 hPa。真空传感器高达 10E -3 hPa

• 根据要求提供其他泵

连接：

• 功率2×（400/230V，21千瓦）

• 真空接头：KF 16/25

• 排气：KF16后置

• 气体管路：Swagelok 6 mm 压缩接头

• 冷却水供给：10mm/12mm

• 压缩干燥空气 (CDA)，外径 6 毫米，5 - 6 巴

尺寸/重量：

• 尺寸：540 x 690 x 890 毫米（宽 x 深 x 高）

• 重量：约145公斤