| 燃气管线 |
|
| 泵 |
|
| 水冷系统 |
|
| 温度 |
|
| 氢气选项 |
|
| 热电偶 |
|
| 测量 |
|
| 安全 |
|
| 警示灯 |
|
| 开关盒 |
|
| 斜坡率 |
|
| 橱柜固定装置 |
|
| 胡德 |
|
| 石英玻璃 |
|
| 石墨 |
|
| 手套箱 |
|
| 电源 |
|
|
产品代码： RTP-150-HV（高真空） 产品价格： 根据要求 交货时间： 根据要求 |
高真空快速退火炉，升温速率高达 75 K/秒。
主要特点是
温度均匀性好
精确控制的升温速率和快速降温速率
MFC精确控制的工艺气路
占地面积小的桌面系统
抽屉式多用途桌面装置，适用于以下应用：
适用于各种半导体工艺的优秀工具
离子注入/接触退火
快速热处理（RTP）,快速退火（RTA）,快速热氧化（RTO）,快速热氮化（RTN）；
可在真空、惰性气氛、氧气、氢气、混合气等不同环境下使用
SiAu、SiAl、SiMo 合金化
低介电材料
晶体化、致密化；
太阳能电池片键合等等
技术数据：
适用于最大 150 mm (6") 或 156 mm x 156 mm 基板尺寸的单晶圆
（可选：100 毫米适配器）
石英腔室（室高：40 mm）
带有集成气体入口和出口
标配1路MFC控制的氮气工艺气路（5 nlm = 标准升每分钟）
由 24 个红外灯 (21 kW) 加热
顶部和底部加热
降温速率：T=1000 °C˃400 °C 200 K/min。
降温速率：T= 400 °C˃100 °C 30 K/min。
配置高真空泵支持真空能力（高达 10E-6 hPa，高达 10E-3 hPa：请参阅 RTP-150），
包括。涡轮分子泵、真空测量、闸阀、压力表；不包括一级泵
SPS 过程控制器，具有 50 个程序，每个程序最多 50 个步骤（以太网接口），SIMATIC
7" 触摸屏，方便编程和过程控制
最高温度1000℃
热电偶温度控制
需要水冷
电气连接类型：32 A CEE 插头（3 x 230 V，三相，N，PE，21 kW）
设备尺寸：504 毫米 x 504 毫米 (700) x 690 毫米（宽 x 深 x 高）
重量：78公斤
快速退火炉由西门子 SPS 控制器进行编程。支持储存 50 个程序，并保存所有温度曲线和段。可根据要求提供水冷却器、附加流量计、附加工艺气体管理、附加热电偶等选件和附件。该工具适用于各种应用程序和客户。设备小巧，方便取放样品，腔室易拆卸。退火炉可以轻松放置在标准实验室桌子上。
选项和配件：
| RTP-150-HV | 标配带有1路MFC控制的氮气工艺气路（5 nlm = 标准升每分钟） |
| RTP-MFC | MFC工艺气路（最多 4 个） |
| RTP-GP | 石墨托盘 |
| RTP-PC-150 | 额外的腔室可与一个过程控制器单元并行使用 （双腔体）150毫米； 两个腔室不可能同时操作 |
| RTP-QP | 石英支架 |
| RTP-QC-150 | RTP-150 的备用石英腔 |
| RTP-TC | 辅助热电偶（插入腔室），（最多 3 个） |
| WC III | 冷水机 |
