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产品代码: 新:RTP-200 产品价格: 根据要求 交货时间: 根据要求 |
RTP-200 / RTP-200-HV
真空/高真空快速退火炉
技术规格
• 适用于直径达 200 毫米(8 英寸)的单片晶圆
• 具有集成气体入口和出口
• 最高温度:1000 °C(可选:1200°C)
• 升温速率:高达 50 K/秒(可选:100 K/秒)
• 通过热电偶(K 或S)控温
• 无石英腔体,铝腔体
• 尺寸:约 578 毫米 x 496 毫米 x 570 毫米(宽 x 深 x 高)
• 重量:约70公斤
零件支架
• 石英托盘,固定在门上
• 用于直径 200 mm 的单片石英支架和石墨托盘
加热方式
• 由2 x 12 红外灯加热(红外加热器标称电压/功率:230 V/2 kW)
• 顶部和底部加热(可选)
真空
• RTP-200-HV 压力范围为 10exp-3 hPa ... 1000 hPa,或 10exp-6 hPa
工艺控制
• SPS 操作系统具有 50 个程序,每个程序最多 50 个步骤
(以太网接口),SIMATIC
• 触摸屏上可存储 50 个程序,每个程序最多 50 个步骤
• USB 2.0 接口用于存储过程数据(CSV 文件格式)
• 包括 7 英寸触摸屏,操作直观舒适
水冷
• 需要水冷(入口压力:5 bar,进水温度:16...20 °C,水硬度低(< 5° dH),
去离子水)